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    濺鍍型鋰錫氧硫固態電解質薄膜之研究
    • 材料科學與工程系 /107/ 碩士
    • 研究生: 蘇士軒 指導教授: 郭東昊
    • 本論文以實驗室自行壓製硫氧化物電解質靶材,採用RF反應式濺鍍法進行製備氧硫化物電解質的Li2SnOS薄膜,欲將硫化物電解質之高離子傳導性與氧化物電解質之穩定性相結合,得到兼顧化學安定與高鋰離子傳導的…
    • 點閱:271下載:4

    2

    反應式濺鍍法製備施受體共摻雜的氮化鎵薄膜及其性質研究
    • 材料科學與工程系 /105/ 碩士
    • 研究生: 劉晏慈 指導教授: 郭東昊
    • 本論文以RF反應式濺鍍法製備施體-受體共摻雜n型或p型的ZnSnGaN薄膜,並探討不同摻雜比例、濺鍍功率與沉積溫度對於薄膜品質、電性及光學性質之影響。於本實驗中我們利用EDS、SEM、AFM、XRD…
    • 點閱:315下載:0
    • 全文公開日期 2022/07/11 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

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    反應濺鍍法製備氮化鋁銦鎵薄膜及其特性分析
    • 材料科學與工程系 /104/ 碩士
    • 研究生: 林凱帆 指導教授: 郭東昊
    • 為探究使用反應式真空濺鍍機製備氮化鋁銦鎵薄膜的制程,與分析此制程下沉積之薄膜的性質。此論文設定兩組不同鋁銦比例的靶材,一組靶材包含摩爾百分比固定5%鋁,銦含量從7.5%、15%、25%的三個陶金靶,…
    • 點閱:263下載:3

    4

    反應性濺鍍法製備錫摻雜氮化鎵及氮化銦鎵薄膜與其特性分析
    • 材料科學與工程系 /104/ 碩士
    • 研究生: 丁昭崴 指導教授: 郭東昊
    • 本論文以RF反應性濺鍍法製備n型Sn摻雜GaN及InGaN薄膜,並將摻雜不同成分之Sn-x GaN薄膜與p-type Silicon基板堆疊製作成p-n二極體,進而觀察其電特性。於本實驗中我們利用E…
    • 點閱:253下載:1

    5

    反應濺鍍法製備鎂摻雜氮化銦鎵薄膜及其特性分析
    • 材料科學與工程系 /102/ 碩士
    • 研究生: 顏煒峻 指導教授: 郭東昊
    • 本實驗成功的以RF反應式濺鍍法來製備p型Mg摻雜InGaN薄膜。並且也成功的將GaN薄膜與摻雜Mg的InGaN薄膜堆疊製作成二極體觀察其電特性。於本實驗中我們利用EDS、SEM、AFM、XRD、霍爾…
    • 點閱:219下載:3

    6

    不同靶材濺鍍與硒化製備硒化銅銦鎵薄膜及其特性分析
    • 材料科學與工程系 /102/ 碩士
    • 研究生: 邱育杉 指導教授: 郭東昊
    • 近年來,許多研究者紛紛投入CIGSe薄膜太陽能電池真空製程之研究,而真空製程方式極多,主要分為濺鍍與蒸鍍,本實驗使用真空濺鍍當作主要製程。 本實驗是利用不同靶材濺鍍出CIGSe薄膜,再將陶瓷CIGS…
    • 點閱:186下載:3

    7

    氧氣/氮氣流量對摻氮氧化鋅特性影響
    • 光電工程研究所 /101/ 碩士
    • 研究生: 張倞源 指導教授: 趙良君
    • 此實驗使用反應式離子束濺鍍法沉積摻氮氧化鋅薄膜,採用陽極層離子源,以鋅為靶材,同時通入氬氣、氧氣及氮氣,探討氧/氮流量對摻氮氧氧化鋅薄膜的特性影響。實驗結果顯示在氧流量0.5 ~ 4.0 sccm,…
    • 點閱:337下載:0
    • 全文公開日期 2018/06/20 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

    8

    反應式濺鍍製備錫與氮摻雜的銅硫氧化合物薄膜及其性質研究
    • 材料科學與工程系 /106/ 碩士
    • 研究生: 余銘浩 指導教授: 郭東昊
    • 本論文以實驗室自行壓製陶金靶材,採用RF反應式濺鍍法及利用氮氣混入濺鍍氣體進行製備n型的CuSnSO薄膜與p型的CuSnSNO薄膜,並探討靶材中不同SnS含量比例、沉積溫度及氮元素的摻雜對於薄膜品質…
    • 點閱:146下載:0
    • 全文公開日期 2023/08/01 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

    9

    二維二硫化鉬薄膜的製備及其光學特性與應用之研究
    • 電子工程系 /105/ 碩士
    • 研究生: 簡瑋德 指導教授: 李奎毅
    • 本論文主要是來探討原子層級的二硫化鉬薄膜的製備與其應用. 本論文主 要是利用化學氣相沉積法合成原子層級的二硫化鉬薄膜於基板上, 而基板則是 選用藍寶石與石英基板, 待合成完二硫化鉬薄膜後, 利用光…
    • 點閱:294下載:0
    • 全文公開日期 2022/07/05 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

    10

    低電阻率摻銅氧化鈷p型導電薄膜之開發
    • 電子工程系 /103/ 碩士
    • 研究生: 李俊融 指導教授: 趙良君
    • 本研究利用反應式離子束濺鍍法沉積氧化鈷與摻銅氧化鈷薄膜,改變氧氣/氬氧的流量比例(Opf = O2/(Ar+O2))及沉積溫度,探討製程參數對氧化鈷及摻銅氧化鈷之影響。研究結果顯示在室溫下所沉積之樣…
    • 點閱:312下載:0
    • 全文公開日期 2020/06/29 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
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